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氧化亞硅真空蒸餾爐
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產品編號
所屬分類
CVD氣相沉積爐
數量
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產品描述
氧化亞硅真空蒸餾爐
設備用途：
氧化亞硅氣相沉積包覆爐，是利用真空蒸鍍法將粉碎后的所得元素摻雜金屬硅與二氧化硅通過真空蒸鍍工藝，制得元素摻雜氧化亞硅。
設備特點：
1、本公司自行設計生產的氧化亞硅氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式（感應加熱、電阻加熱和中頻感應加熱），內部各溫區溫差在±5℃以內，能有效保證物料在內腔內的反應溫度均勻。加熱端溫度≤1400℃，收集區溫度≤900℃。能充分滿足客戶用于氧化亞硅等可氣相沉積材料的燒結工藝。
2、設備采用熱電偶接觸式測溫控溫精度高，高溫真空度好，物料收集率高，具備物料烘干、燒結、收集于一體等特點，其物料反應充分、收集率高等特點。
3、真空采用三級真空機組，油擴散泵+羅茨泵+機械泵+真空閥門，以及我公司自行生產設計的真空過濾系統組成，具有真空度高，設備能在高溫、高真空環境中長期使用。
產品介紹：
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爐型結構 |
臥式 |
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恒溫區尺寸（mm）（可按客戶需求定制） |
7500mm*600mm |
600mm*800mm |
700mm*1000mm |
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爐體 |
由內外雙層水冷結構，與冷卻水接觸部分采用 304 不銹鋼制作，有效防止爐體長時間使用漏氣現象 |
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升華系統 |
由加熱區和收集區組成，加熱區由感應線圈、重質剛玉、石墨硬鉆、等靜壓石墨組成，收集區由 310S不銹鋼及保溫層組成 |
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溫控系統） |
采用 PLC觸屏集中控制方式，自動化控制，帶網口，可實現遠程控制 |
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加熱系統 |
采用感應加熱，電源采用GBT 節能型電源，噪音小，比傳統晶聞管電源節能 15%左右 |
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真空系統 |
由多級真空泵、真空閥，壓力控制器及管路組成 |
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冷卻系統 |
配置閉式冷卻系統，內循環用去離子水，不會造成設備管路結垢，內循環水損失小，外循環用自來水自動補水，風機自啟動散熱，散熱效果好，集成環保，占地面積小等特點 |
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設備由升華系統、收集系統、加熱系統、溫控系統、真空系統、機械系統、冷卻系統組成 |
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關鍵詞:
氧化亞硅真空蒸餾爐
氧化亞硅氣相沉積包覆爐
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C/C復合材料大型沉積爐
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